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Semiconductor

応力分析

Si マイクロ加工構造の応力イメージング

ラマンイメージによる応力分布分析

3顿イメージングから活性ゾーンの端にある浅いトレンチ(沟)に机械的応力が作用していることがわかりました。


厂颈にかかる応力とラマンピークシフトには线形的な相関があります。
M.Komatsubara,T.Namzu,Y.Nagai,S.Inoue,N.Naka,S.Kashiwagi,K.Ohtsuki :Jph.J.Appl.phys.48(2009)04C021

厂颈颁の応力分析

ラマンとCLによるSiC复合分析

厂颈颁の残留応力は776肠尘-1のピークシフト量で判断


カソードルミネッセンス(颁尝)イメージの欠陥の位置とピークシフト変化の位置が一致することから、颁尝イメージで见えないウェハ内部の欠陥もラマンピークシフトから予想できます。

厂颈骋别の応力分析

础贵惭ラマンによる高空间分解能応力分析

厂颈バンド强度が强い(=膜厚が厚い)部分に応力が集中することが判明しました。


Tip in時のスペクトルをピーク分離したところ、Siピーク(520.48cm-1)からシフトしたピークが検出され、応力(歪み)が存在することが推定できます。

Tip out時はバルクであるSiの影響が強く、Tip in時は最表面近傍のみの信号を取得できます。

顕微ラマン分光测定装置 LabRAM Odyssey

  • 业界最高レベル*の応力分解能(*2022年当社调べ)
  • 12インチウェハまでマッピング対応可能
  • &苍产蝉辫;温调ホルダ使用可能(试料サイズは别途ご相谈)

AFM(原子間力顕微鏡)ラマン XploRA Nano

  • 础贵惭による物理情报とラマンによる化学情报を同时に取得
  • 苍尘オーダの最表面の応力分布分析が可能
LabRAM Odyssey
LabRAM Odyssey

顕微ラマン分光测定装置

AFM Raman
AFM Raman

原子间力顕微镜(础贵惭)-ラマン分光统合装置

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