Ą¶¾ØĢåÓżÖ±²„

Semiconductor Page Heading

Lithography

Lithography

ķ¬ķ†  ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼(Photoric Lithography) ė˜ėŠ” ź“‘ ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼(UV Lithorgaraphy)ėŠ” ģ–‡ģ€ ķ•„ė¦„ģ“ė‚˜ 기판(ģ›Øģ“ķ¼ė¼ź³ ė„ 함) ģœ„ģ— ė¶€ķ’ˆģ„ ķŒØķ„“ķ™”ķ•˜ėŠ” 미세 ģ œģž‘ģ— ģ‚¬ģš©ė˜ėŠ” ź³µģ •ģž…ė‹ˆė‹¤.
ė¹›ģ„ ģ‚¬ģš©ķ•˜ģ—¬ ź“‘ė§ˆģŠ¤ķ¬(ź“‘ķ•™ ė§ˆģŠ¤ķ¬ė¼ź³ ė„ 함)ģ—ģ„œ źø°ķŒģ˜ 감ꓑ성(즉, 빛에 ėÆ¼ź°ķ•œ) 화학 ķ¬ķ† ė ˆģ§€ģŠ¤ķŠøė”œ źø°ķ•˜ķ•™ģ  ķŒØķ„“ģ„ ģ „ė‹¬ķ•©ė‹ˆė‹¤. 그런 ė‹¤ģŒ ģ¼ė Øģ˜ 화학적 처리넼 통핓 ė…øģ¶œ ķŒØķ„“ģ„ ģž¬ė£Œģ— ģ—ģ¹­ķ•˜ź±°ė‚˜ ģ›ķ•˜ėŠ” ķŒØķ„“ģ˜ 새딜욓 ģž¬ė£Œė„¼ ķ¬ķ† ė ˆģ§€ģŠ¤ķŠø ģ•„ėž˜ģ˜ ģž¬ė£Œģ— ģ¦ģ°©ķ•  수 ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤. ė³µģž”ķ•œ ģ§‘ģ ķšŒė”œģ—ģ„œ CMOS ģ›Øģ“ķ¼ėŠ” ķ¬ķ† ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼ ģ‚¬ģ“ķ“ģ„ 50ķšŒź¹Œģ§€ ķ•  수 ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤.

ķ¬ķ† ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼ėŠ” ķ¬ķ† ė ˆģ§€ģŠ¤ķŠø ģ‹ź°ģ˜ ķŒØķ„“ģ“ 직접 (마스크넼 ģ‚¬ģš©ķ•˜ģ§€ ģ•Šź³ ) 빛에 ė…øģ¶œė˜ź±°ė‚˜ ķ¬ķ† ė§ˆģŠ¤ķ¬ė„¼ ģ‚¬ģš©ķ•˜ģ—¬ 투영된 ģ“ėÆøģ§€ė”œ ģƒģ„±ėœė‹¤ėŠ” ģ ģ—ģ„œ 사진과 ėŖ‡ 가지 źø°ė³ø 원리넼 ź³µģœ ķ•©ė‹ˆė‹¤.
ģ“ ģ ˆģ°ØėŠ” ģøģ‡„ 회딜 źø°ķŒģ„ ė§Œė“œėŠ” ė° ģ‚¬ģš©ė˜ėŠ” ė†’ģ€ ģ •ė°€ė„ģ˜ ė°©ė²•ģž…ė‹ˆė‹¤. ź³µģ •ģ˜ ķ›„ģ† ė‹Øź³„ėŠ” ģ„ķŒ ģøģ‡„ė³“ė‹¤ ģ‹ź°ź³¼ ė” ė§Žģ€ ź³µķ†µģ ģ“ ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤.
ģ“ ė°©ė²•ģ€ ģˆ˜ģ‹­ ė‚˜ė…øėÆøķ„° ķ¬źø°ź¹Œģ§€ 매우 ģž‘ģ€ ķŒØķ„“ģ„ ė§Œė“¤ 수 ģžˆź³ , ė™ģ‹œģ— ė§Œė“œėŠ” ź°ģ²“ģ˜ ėŖØģ–‘ź³¼ 크기넼 ģ •ķ™•ķ•˜ź²Œ ģ œģ–“ķ•˜ź³  전첓 ķ‘œė©“ģ— 걸쳐 ķŒØķ„“ģ„ 볓다 효율적으딜 ė§Œė“¤ 수 ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤.
ģš°ģ„  ķ‰ķƒ„ķ•œ źø°ķŒģ„ ķ•„ģš”ė”œ ķ•˜ź³ , ķ‰ķƒ„ķ•˜ģ§€ ģ•Šģ€ ķ˜•ģƒģ„ ė§Œė“œėŠ” ė° 큰 ķšØź³¼ź°€ ģ—†ģœ¼ė©°, ź·¹ķžˆ ź¹Øė—ķ•œ ģž‘ė™ ģ”°ź±“ģ„ ģš”źµ¬ķ•  수 ģžˆė‹¤ėŠ” ź²ƒģ“ ģ£¼ģš” ė‹Øģ ģž…ė‹ˆė‹¤.
ķ¬ķ†  ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼ėŠ” ģøģ‡„ķšŒė”œźø°ķŒ(PCB)ź³¼ ė§ˆģ“ķ¬ė”œķ”„ė”œģ„øģ„œ ģ œģž‘ģ˜ ķ‘œģ¤€ ė°©ė²•ģœ¼ė”œ 직접 ģžź°€ ģ”°ė¦½ģ€ ķ¬ķ† ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼ģ˜ ėŒ€ģ•ˆģœ¼ė”œ ķ‰ź°€ė˜ź³  ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤.

ķ¬ķ† ė¦¬ģ†Œź·øėž˜ķ”¼ėŠ” ģ¼ė°˜ģ ģœ¼ė”œ 컓퓨터 ģ¹©ģ„ ģƒģ‚°ķ•˜ėŠ” ė° ģ‚¬ģš©ė˜ė©°, 컓퓨터 ģ¹©ģ„ ģ œģ”°ķ•  ė•Œ, 기판 ģž¬ė£ŒėŠ” ģ‹¤ė¦¬ģ½˜ģ˜ ė ˆģ§€ģŠ¤ķŠø 피복 ģ›Øģ“ķ¼ģž…ė‹ˆė‹¤. ģ“ ź³µģ •ģ„ 통핓 ģ‹¤ė¦¬ģ½˜ ģ›Øģ“ķ¼ ķ•˜ė‚˜ģ— 수백 ź°œģ˜ ģ¹©ģ„ ė™ģ‹œģ— 구축할 수 ģžˆģŠµė‹ˆė‹¤.

Mask Production Process

Lithography Process

Applications

Downloads

ģ œķ’ˆ ė¬øģ˜

Ą¶¾ØĢåÓżÖ±²„ģ œķ’ˆģ˜ ģžģ„øķ•œ 정볓넼 ģ›ķ•˜ģ‹œė©“, ģ•„ėž˜ģ˜ ģ–‘ģ‹ģ— ė‚“ģš©ģ„ ģž…ė „ģ„ ė¶€ķƒė“œė¦½ė‹ˆė‹¤.

* ėŠ” ķ•„ģˆ˜ģž…ė „ķ•­ėŖ©ģž…ė‹ˆė‹¤.

Corporate